芬兰埃斯波和东京2020年9月14日 /美通社 / -- 长濑产业株式会社(NAGASE & CO. Group)旗下公司、硅氧烷基光学透明Nano-Imprint Lithography（纳米压印光刻）(NIL)材料领域的全球领导者Inkron对NIL材料和组件开发基础设施进行了战略投资。此次投资将显著加快Inkron开发高性能光学材料的进程，这些材料是增强现实(AR)眼镜、3D传感器和其他衍射光学元件(DOE)关键部件所需的。通过此次投资，Inkron将大幅增强其能力，更好地为客户提供定制光学NIL材料，同时交付时间快，性能也得到了提高。Inkron目前还可以为客户提供组件原型开发和小批量生产服务。
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图1. 使用EVG工具和Inkron的高折射率IOC树脂在SCHOTT基底上压印纳米压印衍射结构https://kyodonewsprwire.jp/prwfile/release/M105348/202009043950/_prw_PI2fl_ft6dgP0t.jpg
图2. EVG 7200 SmartNIL (R) UV纳米压印光刻系统https://kyodonewsprwire.jp/prwfile/release/M105348/202009043950/_prw_PI3fl_81TjkWTR.jpg
此次投资的最重要部分是从EV Group （简称EVG）购买EVG (R) 7200 UV NIL自动化系统并对其进行安装。EVG 7200系统利用EVG的创新SmartNIL (R)技术和材料专业知识，支持微纳米和纳米级结构的大规模生产，同时实现了无与伦比的质量。该系统提供低作用力和共形压印，快速高功率曝光及平整的压印脱离，支持无与伦比的生产量和低拥有成本。采用SmartNIL技术的EVG 7200系统非常适合批量生产用于AR和虚拟现实(VR)等应用的新一代光子器件（包括波导和DOE）。除了这些功能之外，这款已交付给Inkron的工具还提供高强度紫外线站和加热卡盘，并支持将软UV-NIL材料用于微透镜成型应用。
Inkron提供NIL加工材料，折射率范围广，甚至可达到2.0。NIL材料与涂层、缝隙填充和平面化涂层形成互补，折射率低至1.1。这些材料平台与EVG 7200系统相结合，为新型光学组件的开发提供了理想的基础设施，在加快交付时间的同时，优化了特殊器件的树脂和工艺。除了NIL设备之外，Inkron还对光学结构制造和测试设备进行重大投资，包括设备性能和可靠性测试，并将继续加大在这方面的投资。该公司成立了为Inkron NIL生态系统提供支持的专业团队，该团队由副总裁Janne Kylma博士领导，成员包括材料科学家、光刻工艺工程师和光子学专家。Inkron运营副总裁Jukka Perento则负责指导商业NIL活动。
EV Group企业技术开发和IP总监Markus Wimplinger表示：“EV Group通过NILPhotonics能力中心与Inkron等来自整个光子学供应链的公司合作，利用我们的NIL技术和专业知识，加快新设备和应用的开发。通过与Inkron合作，我们有机会支持他们开发对生产新一代光学器件至关重要的先进光阻剂。”
Jukka Perento称：“我们很高兴能加快开发我们经过优化和创新的新型光学树脂技术。新款EVG 7200系统在这项战略举措中发挥着至关重要的作用。这些新能力将帮助我们解决客户的关键性能问题，并帮助他们取得成功。我们的纳米压印高折射率材料和匹配的缝隙填充涂料，与EVG的NIL系统相结合，为光学制造商提供他们所需的关键晶圆级解决方案，帮助他们快速扩大其最新研发成果的生产规模。”
Inkron网站：
http://inkron.com/
EV Group网站：
https://www.evgroup.com/company/about-evg/
