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Gore 发布半导体行业用超纯水中<50nm颗粒的新测量方法
证实能去除最小达12nm的颗粒
美国马里兰州艾克顿2012年7月9日电 /美通社亚洲/ -- W. L. Gore & Associates 和 CT Associates 发布了一份白皮书，介绍一种新的测量方法，能够测量半导体行业超纯水中小于50nm的颗粒，并通过超滤(UF)和微滤(MF)的组合去除最小达 12nm 的颗粒。
半导体厂商们希望知道的是，他们的 UPW 系统能够生产不含微小颗粒的水，这些微小颗粒会导致良率问题。当他们的线宽更小时，这种严格的颗粒尺寸可以小到10nm或更小。当前的颗粒计数仪不能测量这么微小的颗粒，但是半导体厂商需要知道的是，他们的UPW系统所采用的过滤策略要有能力捕获这么微小的颗粒。
目前已经开发出的颗粒检测技术能够让过滤芯厂商在实验室的环境下测量对这种微小颗粒的过滤效率。这种技术依赖于将UPW蒸发变成气态雾状的创新方法。即让来自 UPW 的颗粒保持气相，从而使其能通过常规气态颗粒探测仪精确测定微小颗粒的尺寸和数量。
这种方法目前已经广泛用来评估大多数 UPW 系统所采用的超滤模组的过滤性能。该测试显示，尽管这些超滤模组具有很高的过滤精度，但一些极小的颗粒仍能穿过超滤膜，从而给半导体厂商带来风险。该测试方法还进一步显示，一种过滤精度极高的微滤过滤芯能够截留大部分的微小颗粒。最后，验证了同时采用超滤模组和高精度微滤过滤芯的过滤系统对小至12nm的颗粒展示了卓越的过滤效果。
最新的白皮书“超滤和微滤相结合能够去除 UPW 中12nm的颗粒”，由 CT Associates, Inc. 的 Donald C Grant 和 Dennis Chilcote 以及 W. L. Gore and Associates, Inc. 的 UweBeuscher 共同撰写，可在线阅读 www.ultrapurewater.com 上 ULTRAPURE WATER® Journal 的5/6月刊。它还将在11月13-14日亚利桑那州凤凰城的“超纯水-微会议”上演示。会议的具体信息请见：http://www.ultrapurewater.com/Conferences/Phoenix.HTM
W. L. Gore & Associates, Inc. 公司简介
GORE聚四氟乙烯滤膜，在全球半导体、电子、超纯水、高纯化学品行业用较佳过滤器中已有数十年的应用经验。30多年来，戈尔以独创、可靠的PTFE薄膜产品，帮助了众多微电子厂商提高生产效率、降低设备停机时间并提升通量。在电子、织物、工业和医疗市场上，戈尔公司拥有数千种采用先进技术生产的产品，是全球领先的厂商。除最为熟知的防水透气型GORE-TEX®织物之外，公司的系列产品还包括涉猎广泛的各种创新，包括从吉他弦到挽救生命的心血管器械。戈尔公司总部位于特拉华州纽瓦克市，全球销售额约为30亿美元，员工达9000人，分布在全球30个国家。自1984年，《财富》杂志的“全美100家最适合工作的企业”排行榜开始评选以来，戈尔是每年均入选的仅有四家公司之一。要了解更多情况，请见 http://www.gore.com.cn/
如需获得更为全面的产品咨询，请访问：www.gore.com/chinafilters
GORE，GORE-TEX 及其外观设计是 W. L. Gore & Associates（戈尔公司）的注册商标。
©2012 W. L. Gore & Associates, Inc.
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