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倍耐克加强在批量型工业化原子层沉积技术上的领先地位

- 该公司在2016年第16届国际原子层沉积大会上推出新产品Beneq R11™和Beneq T2S™
倍耐克
2016-07-25 08:00 3324
倍耐克(Beneq)今天面向工业客户推出两款新的薄膜设备解决方案,从而满足这些用户在ALD先进应用方面,对高产能和低制备成本的需求。

芬兰埃斯波2016年7月25日电 /美通社/ -- 领先的原子层沉积(ALD)设备和镀膜服务提供商倍耐克(Beneq)今天面向工业客户推出两款新的薄膜设备解决方案,从而满足这些用户在ALD先进应用方面,对高产能和低制备成本的需求。新推出的产品将树立ALD行业的涂层速度新标准。

Beneq R11™ - 超快高精度空间ALD涂层

Beneq R11是倍耐克广泛的工业用高产能空间ALD解决方案组合的最新成员。该产品为工业应用中在硅片上运用高性能ALD工艺提供了最理想的解决方案。它可以很好地满足设备对速度、成本、低制备温度和尽可能提高薄膜质量等关键要素的需求。

Beneq R11的推出首次让等离子体增强型原子层沉积(PEALD)工艺用于大批量生产成为可能。该系统适用于微电机系统(MEMS)、LED(发光二极管)、OLED(有机发光二极管)、光伏、大功率半导体和传感器领域的阻挡层、隔热层和防腐保护层等应用。

Beneq T2S™ - 自动化批量硅片设备

Beneq T2S是倍耐克基于硅片的生产设备组合的最新一员。它可用于高产能批量制备并同时具备标准的自动上下片系统。经过专门设计的Beneq T2S可满足半导体应用的要求,包括国际半导体设备与材料协会(SEMI) S2安全标准和较少颗粒数等规定。

Beneq T2S是MEMS、LED,OLED和喷墨打印机喷头等各类硅片应用实现大批量生产的理想之选。Beneq T2S的批量热处理ALD技术适用于氧化物和氮化物的薄膜制备,可用于绝缘体、导体、阻挡层和钝化处理等应用。

新产品在位于爱尔兰都柏林举行的2016年第16届国际原子层沉积大会(ALD2016)上正式推出。

倍耐克(Beneq®)是领先的ALD设备和镀膜服务提供商,同时也是世界顶尖的基于ALD的电致发光显示器制造商。

倍耐克的薄膜解决方案提升了电子、光学和敏感材料的性能与耐久性,并提供防潮、防腐蚀和防锈蚀等保护功能。

倍耐克坚固、透明且可定制的Lumineq®显示屏可用于极端环境下的各类应用。完全透明的Lumineq TASEL®显示屏坚固可靠,具备前后两面可视等优越特性。

http://www.beneq.com
http://www.beneq.com/beneq-r11.html
http://www.beneq.com/beneq-t2s.html

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消息来源:倍耐克
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