推进工艺工具反应室零配件清洗事业发展，帮助达到 20nm 以下晶圆制造工艺要求
-- QuantumClean® 成为首家加入美国半导体制造技术战略联盟的半导体工业外包工艺工具零配件清洗公司
宾夕法尼亚州夸克敦2014年4月30日电 /美通社/ -- QuantumClean® 是为半导体、太阳能和 LED 行业提供经过验证的高纯度外包工艺工具零配件清洗、表面处理、翻新、分析和工程服务的全球领先提供商，而 ChemTrace® 则是业内公认的领先微污染分析测试实验室，这两家机构的母公司 Quantum Global Technologies LLC 今天宣布加入纽约州奥尔巴尼的 SEMATECH（美国半导体制造技术战略联盟），以推进工艺工具反应室零配件清洗事业和分析方法发展，帮助达到 20nm 以下晶圆制造工艺要求。
根据双方签署的合作协议的条款，美国半导体制造技术战略联盟和 QuantumClean 将在开发新的系统方法方面进行合作，而这些新的系统方法涉及工艺工具反应室零配件清洗和在现今能力范围之外探测粒子的分析方法。
QuantumClean 创新和技术高级总监阿德希尔-西多瓦 (Ardeshir Sidhwa) 博士表示：“我们非常高兴能够与美国半导体制造技术战略联盟达成这份协议。我们一直在努力推动技术进步，并为我们居于前沿地位的晶圆代工厂和原始设备制造商 (OEM) 客户提供创新解决方案。”西多瓦博士总结说：“在我们所处的行业向 10nm 以下节点迈进的同时，QuantumClean 也将准备迎接表面制备和清洗方面的挑战，帮助在现今能力范围之外排除粒子与污染状况，并加以测量。”
Quantum Global Technologies 首席运营官大卫-扎克 (David Zuck) 说：“QuantumClean 是第一家，也是目前唯一拥有加入美国半导体制造技术战略联盟的远见的外包半导体工艺工具零配件清洗公司。”扎克先生总结说：“QuantumClean 一直将相当大的一部分企业利润投入到零配件清洗和分析技术开发上面，帮助满足业内居于前沿地位的晶圆代工厂和原始制造商持续增加的要求。不过，在 20nm 以下设计节点制造方面，传统零配件清洗方法及相关计量技术已被证明效果不佳。然而通过与正在开发 11nm 和 7nm 设计节点解决方案的美国半导体制造技术战略联盟合作，这些挑战都能被克服，而 QuantumClean 也将为客户利益着想，把相应技术诀窍结合进自身业务。”
美国半导体制造技术战略联盟高级技术总监 Michael Lercel 表示：“美国半导体制造技术战略联盟的目标是构建成功部署未来设备节点所需的基础架构。我们努力探索被用于先进半导体工艺的设备、设备元件和材料所产生的缺陷的生成、蔓延、排除及其产生的影响，这样的工作可以帮助这些供应链元素满足未来设备节点的复杂污染要求。我们与 QuantumClean 进行合作可以为美国半导体制造技术战略联盟带来精密零配件清洗方面的额外专长，这反过来又能提高我们的研究水平，帮助进一步强化美国半导体制造技术战略联盟在发现和迎接未来技术节点挑战方面的承诺。”
