宾夕法尼亚州夸克敦2016年3月14日电 /美通社/ -- QuantumClean和ChemTrace将参加2016年3月15日至17日在上海的上海新国际博览中心举行的2016年SEMICON China贸易展，展位号为5154号。
依托领先的技术、资源和专长，QuantumClean成为了20nm以下超高纯度半导体部件清洗能力方面的开拓者，致力于生产Atomically Clean Surfaces™制程腔体部件。
该行业对于更加清洁的制程腔体部件和加强管理的需求不断加速发展。QuantumClean于2000年制定了其首个技术蓝图，即预测了这些趋势并且确定了面向该行业日益变化的需求的解决方案。在接下来数年内，QuantumClean的研发与工程团队不断提供面向业内最具挑战的部件清洗问题的创新型解决方案，从而在竞争中领先，并且该团队近期制定了20纳米以下的清洗协议。在参加2016年Semicon China贸易展期间，该公司期待与个体设备制造商、晶圆厂、原始设备制造商(OEM)和原部件制造商(OPM)分享其各种能力。
面向QuantumClean众多领先的半导体实验室、原始设备制造商和对清洁具有苛刻要求的原部件制造商客户，ChemTrace提供制程工具部件清洗效果的独立分析验证服务。
ChemTrace销售总监Surjany Russell表示：“自我们于20世纪90年代末首次推出无损工具部件分析服务以来，ChemTrace的分析技术目前获得了领先的设备制造商和原始设备制造商的广泛认可，成为了分析测试技术方面的首选。我们将全球业务拓展至包括韩国、台湾和新加坡的实验室，这使地区客户能直接使用我们的实验室来进行较快周转时间的分析。”
QuantumClean和ChemTrace的技术、商务和管理团队将参加这次展会，并且希望有机会就当前与未来的部件清洗/翻新难题和分析要求探讨各种解决方案。
